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雰囲気X線光電子分光の開発と材料表面のオペランド観測
当研究室では、放射光軟X線を用いた雰囲気X線光電子分光の開発と材料表面のオペランド観測を実施しています。オペランド観測とは、機能性を発現している状態の材料を直接観測することであり、材料本来の姿を明らかにするうえで非常に重要です。強度(フラックス)が高く、光を狙った場所に小さく絞ることができる放射光を用い、従来の超高真空でのX線光電子分光測定をガス雰囲気下で行える仕組みを開発することで、世界有数のオペランド実験を展開しています。このページでは「雰囲気X線光電子分光の原理」とそれを用いた「材料表面のオペランド観測」について紹介します。
雰囲気X線光電子分光法の原理
光電子分光法(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)の原理は光電効果です。これは物質に仕事関数以上のエネルギーを持った光を入射すると、光電子が放出される現象です。光電子分光法では、材料にX線と呼ばれるエネルギー領域の電磁波を照射し、放出された光電子の運動エネルギーと強度から、材料表面に存在する元素の種類と化学状態、その存在量に関する情報を得ることができます。
これをより高圧のガス雰囲気下で行えるようにしたのが、雰囲気X線光電子分光(Ambient pressure XPS, AP-XPS)です。特に軟X線(100 ~ 2000 eV)領域では,光電子の強度はガス分子との衝突によって容易に減衰するため、XPS測定は通常、超高真空中で行われます。AP-XPSでは、ガス雰囲気下の反応室と超高真空下のアナライザーの間を段階的に排気する差動排気系を用いることにより、実環境に近い環境下の試料から放出された光電子を検出します。このほかにも、X線導入管を試料付近まで近づけて軟X線の減衰を抑えたり、試料と差動排気系入口との間の距離を短くして光電子強度の減衰を抑えるなどの工夫を行っています。
これまで当研究室では、SPring-8の軟X線ビームライン BL07LSU においてNAP-XPS測定を行ってきましたが、2024年度から運用が開始されたNanoTerasuの軟X線ビームライン BL08U に拠点を移し、さらに大気圧に近い圧力下での測定の実現を目指しています。
K. Ozawa et al., J. Phys. Chem. Lett. 5, 1953 (2014).
T. Someya et al., Phys. Rev. B 95, 165303 (2017). (Editor's Suggestion)